Отрывок: Измерение толщины плёнок было проведено на интерферометре белого света «WLI-DMR» (производство Института Фраунгофера, г. Йена, Германия) по сдвигу интерференционных полос на краю покрытия. Для проведения исследований данным методом на поверхности подложки необходимо созда...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Вершков Д. А. | ru |
dc.contributor.author | Архипов А. В. | ru |
dc.contributor.author | Лофицкий И. В. | ru |
dc.contributor.author | Министерство образования и науки Российской Федерации | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | кристаллиты | ru |
dc.coverage.spatial | магнетронное распыление | ru |
dc.coverage.spatial | тонкие пленки | ru |
dc.coverage.spatial | четырехзондовый метод | ru |
dc.coverage.spatial | деградация | ru |
dc.coverage.spatial | границы зерен | ru |
dc.coverage.spatial | удельное сопротивление | ru |
dc.creator | Вершков Д. А. | ru |
dc.date.issued | 2017 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20171215113621 | ru |
dc.identifier.citation | Вершков, Д. А. Исследование свойств тонких резистивных пленок хрома : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / Д. А. Вершков ; рук. работы А. В. Архипов; рец. И. В. Лофицкий ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и элек. - Самара, 2017. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Цель работы - исследование изменения свойств тонких резистивных пленок хрома в зависимости от их толщины.Для решения поставленных задач были применены следующие методы: четырехзондовый метод измерения поверхностного сопротивления, метод интерферометрии, метод атомно-силовой микроскопии.Экспериментально установлено, что с уменьшением толщины пленки, ее электрическое сопротивление может превышать сопротивление массивных металлов на порядок и более. При толщинах менее 10 нм происходит потеря сплошности пленки.Определено, что размер кристаллитов зависит от масштабного фактора-толщины пленки.При повышенных температурах происходит деградация хромовых тонких пленок за счет их интенсивного окисления. Зависимость сопротивления пленок от времени нагрева имеет параболический вид. | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 2,1 Мб) | ru |
dc.title | Исследование свойств тонких резистивных пленок хрома | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 47.33 | ru |
dc.subject.udc | 539.2 | ru |
dc.textpart | Измерение толщины плёнок было проведено на интерферометре белого света «WLI-DMR» (производство Института Фраунгофера, г. Йена, Германия) по сдвигу интерференционных полос на краю покрытия. Для проведения исследований данным методом на поверхности подложки необходимо созда... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Вершков_Денис_Андреевич_Исследование_свойств_тонких_резистивных.pdf | 2.14 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.