Отрывок: 25 3.1.1.1 Резистивное испарение Резистивное испарение – нагрев тела до температуры испарения пропусканием через него электрического тока. Оборудование для резистивного испарения обладает низкой стоимостью, высокой безопасностью. А также возможностью нанесения плёнок металлов, полупроводников и диэлектриков. Несмотря на высокую скорость осаждения, данный метод обладает рядом недостатков, например, загрязнение подложки молекулами материала нагревателя,...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Кондратьев И. С. | ru |
dc.contributor.author | Паранин В. Д. | ru |
dc.contributor.author | Министерство науки и высшего образования Российской Федерации | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | шаблон | ru |
dc.coverage.spatial | электронная литография | ru |
dc.coverage.spatial | технологические процессы | ru |
dc.coverage.spatial | кремниевая подложка | ru |
dc.coverage.spatial | металлическая пленка | ru |
dc.coverage.spatial | твердые маски металлов | ru |
dc.coverage.spatial | жидкостное травление | ru |
dc.coverage.spatial | напыление | ru |
dc.creator | Кондратьев И. С. | ru |
dc.date.issued | 2020 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20200619155036 | ru |
dc.identifier.citation | Кондратьев, И. С. Оптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металлов : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / И. С. Кондратьев ; рук. работы В. Д. Паранин ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский ун-т), Ин-т информатики. - Самара, 2020. - on-line | ru |
dc.description.abstract | В выпускной квалификационной работе представлены результаты отимизизации технологического процесса изготовления бинарного маскирующего покрытия на основе тонких пленок металлов. В процессе работы были решены требуемые, для выполнения технического задания, задачи. В результате работы были получены параметры электронной литографии для экспонирования шаблона фотолитографии оптического и УФ диапозонов. | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 1,5 Мб) | ru |
dc.title | Оптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металлов | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 47.13.33 | ru |
dc.subject.udc | 621.3.049.77 | ru |
dc.textpart | 25 3.1.1.1 Резистивное испарение Резистивное испарение – нагрев тела до температуры испарения пропусканием через него электрического тока. Оборудование для резистивного испарения обладает низкой стоимостью, высокой безопасностью. А также возможностью нанесения плёнок металлов, полупроводников и диэлектриков. Несмотря на высокую скорость осаждения, данный метод обладает рядом недостатков, например, загрязнение подложки молекулами материала нагревателя,... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Кондратьев_Илья_Сергеевич_Оптимизация_параметров_процесса_электронной.pdf | 1.51 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.