Отрывок: Очистка подложек заключалась в промывке в щелочном растворе, выдержке в хромовом растворе H2SO4:K2CrO7 в течение 5 мин и ополаскивании в деионизованной воде. Для создания дифракционной маски применялся метод взрывной литографии (lift-off процесс) [21]. Нанесение слоя фоторезиста ФП-051К и толщиной 0,4 мкм производилось с помощью центрифугирования в два этапа: на скорости 500 об/мин длительностью 20 сек, а затем на скорости 4500 об/мин длительностью 45 сек. Сушка фоторезиста про...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Степанов С. И. | ru |
dc.contributor.author | Паранин В. Д. | ru |
dc.contributor.author | Матюнин С. А. | ru |
dc.contributor.author | Министерство образования и науки Российской Федерации | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | оксид индия-олова | ru |
dc.coverage.spatial | электрооптические кристаллы | ru |
dc.coverage.spatial | электрооптический эффект | ru |
dc.coverage.spatial | управляемые дифракционные решетки | ru |
dc.coverage.spatial | топология электродов | ru |
dc.coverage.spatial | диаграмма направленности | ru |
dc.coverage.spatial | ниобат лития | ru |
dc.creator | Степанов С. И. | ru |
dc.date.issued | 2017 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20171214154919 | ru |
dc.identifier.citation | Степанов, С. И. Изготовление и экспериментальное исследование электроуправляемой дифракционной решетки на основе проводящего оксида индия - олова : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / С. И. Степанов ; рук. работы В. Д. Паранин; рец. С. А. Матюнин ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и элек. - Самара, 2017. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Объектом исследования в настоящей работе являетсяэлектроуправляемая дифракционная решетка на основе электрооптическогокристалла ниобата лития X-среза и электродов из оксида индия-олова.Цель работы – изготовить и экспериментально исследоватьэлектроуправляемую дифракционную решетку на основе проводящегооксида индия-олова.Изготовлена проводящая топология ITO-решетки на поверхностиэлектрооптического кристалла ниобата лития методом «взрывнойфотолитографии» с периодом 290 мкм.Исследованы оптические характеристики формирования электродов изоксида индия-олова и показано улучшенное, до 2 раз, оптическоепропускание по сравнению с алюминиевыми электродами за счет выборатолщины, обеспечивающей оптическое просветление.Исследовано электрическое сопротивление электродов из оксидаиндия-олова и установлено снижение удельного поверхностногосопротивления с 50 Ом/кв до 26 Ом/кв при однократном атмосферномотжиге при t=250 в течение 3 мин.Исследована модуляционная характеристика и показано снижениеинтенсивности 0 | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 0,9 Мб) | ru |
dc.title | Изготовление и экспериментальное исследование электроуправляемой дифракционной решетки на основе проводящего оксида индия - олова | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 29.31 | ru |
dc.subject.udc | 535 | ru |
dc.textpart | Очистка подложек заключалась в промывке в щелочном растворе, выдержке в хромовом растворе H2SO4:K2CrO7 в течение 5 мин и ополаскивании в деионизованной воде. Для создания дифракционной маски применялся метод взрывной литографии (lift-off процесс) [21]. Нанесение слоя фоторезиста ФП-051К и толщиной 0,4 мкм производилось с помощью центрифугирования в два этапа: на скорости 500 об/мин длительностью 20 сек, а затем на скорости 4500 об/мин длительностью 45 сек. Сушка фоторезиста про... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Степанов_Сергей_Иванович_Изготовление_экспериментальное_исследование.pdf | 883.91 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.