Отрывок: Сни жение давления достигается введением дополнительных термо катода и анода, между которыми зажигается электрический раз ряд. Поток плазмы, создаваемый этим разрядом, инжектируется в зону распыления. При подаче на катод высокого отрицательного потенциала происходят отбор и ускорение ионов из плазмы, а также распыление загрязняющих поверхность подложек приме сей при их расположении на катоде. Формированию плазменного потока заданной фо...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Колпаков В. А. | ru |
dc.contributor.author | Федеральное агентство по образованию | ru |
dc.contributor.author | Самарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева | ru |
dc.coverage.spatial | оптические материалы | ru |
dc.coverage.spatial | ионно-плазменные технологии | ru |
dc.coverage.spatial | поверхность подложки | ru |
dc.date.issued | 2008 | ru |
dc.identifier | RU/НТБ СГАУ/WALL/СГАУ:5/И 755-811734 | ru |
dc.identifier.citation | Ионно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов [Электронный ресурс] : [метод. указания к лаб. работе] / Федер. агентство по образованию, Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; [сост. В. А. Колпаков]. - Самара : [Изд-во СГАУ], 2008. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Труды сотрудников СГАУ (электрон. версия) | ru |
dc.description.abstract | Используемые программы: Adobe Acrobat | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 12,1 Мбайт) | ru |
dc.language.iso | rus | ru |
dc.publisher | [Изд-во СГАУ] | ru |
dc.relation.isformatof | Ионно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов [Текст] : [метод. указания к лаб. работе] | ru |
dc.title | Ионно-плазменная очистка поверхности подложек оптических материалов | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 29.31 | ru |
dc.subject.udc | 535.42(075) | ru |
dc.subject.udc | СГАУ:5(075) | ru |
dc.textpart | Сни жение давления достигается введением дополнительных термо катода и анода, между которыми зажигается электрический раз ряд. Поток плазмы, создаваемый этим разрядом, инжектируется в зону распыления. При подаче на катод высокого отрицательного потенциала происходят отбор и ускорение ионов из плазмы, а также распыление загрязняющих поверхность подложек приме сей при их расположении на катоде. Формированию плазменного потока заданной фо... | - |
Располагается в коллекциях: | Методические издания |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Колпаков В.А.Ионно-плазменная чистка.pdf | 263.58 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.