Отрывок: Л. Казанский, В.А. Колпаков – М.: Радио и связь, 2009. – 220 с. 98 4. Вакуумно-плазменные процессы и технологии: Учеб. Пособие / А.М. Ефремов, В.И. Светцов, В.В. Рыбкин; ГОУВПО Иван. Гос. хим.-технол. Ун-т. Иваново, 2006 – 260 с. 5. Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники / Ф.И. Григорьев: Учебное пособие / Моск. гос. ин- т электроники и математики. М., 2...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorКутурин В. А.ru
dc.contributor.authorХаненко Ю. В.ru
dc.coverage.spatialфотостимулированные процессыru
dc.coverage.spatialрадикальное травлениеru
dc.coverage.spatialплазменное травлениеru
dc.coverage.spatialплазмохимическое нанесение пленокru
dc.coverage.spatialреактивно-ионно-плазменное травлениеru
dc.coverage.spatialионно-лучевое травлениеru
dc.coverage.spatialионно-плазменное осаждение пленокru
dc.coverage.spatialмикроэлектронные структурыru
dc.coverage.spatialнизкотемпературная плазмаru
dc.creatorКутурин В. А., Ханенко Ю. В.ru
dc.date.accessioned2022-05-13 12:59:02-
dc.date.available2022-05-13 12:59:02-
dc.date.issued2022ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\481341ru
dc.identifier.citationКутурин, В. А. Обзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структур / В. А. Кутурин, Ю. В. Ханенко // Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф. 19-22 апр. 2022 г. / Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т) ; под ред. А. И. Данилина. - Самара : Артель, 2022. - С. 96-98.ru
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/handle/Aktualnye-problemy-radioelektroniki-i-telekommunikacii/Obzor-sovremennyh-metodov-i-sredstv-plazmennogo-travleniya-mikroelektronnyh-struktur-97432-
dc.language.isorusru
dc.sourceАктуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф. 19-22 апр. 2022 г. - Текст : электронныйru
dc.titleОбзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структурru
dc.typeTextru
dc.citation.epage98ru
dc.citation.spage96ru
dc.textpartЛ. Казанский, В.А. Колпаков – М.: Радио и связь, 2009. – 220 с. 98 4. Вакуумно-плазменные процессы и технологии: Учеб. Пособие / А.М. Ефремов, В.И. Светцов, В.В. Рыбкин; ГОУВПО Иван. Гос. хим.-технол. Ун-т. Иваново, 2006 – 260 с. 5. Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники / Ф.И. Григорьев: Учебное пособие / Моск. гос. ин- т электроники и математики. М., 2...-
Располагается в коллекциях: Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
978-5-903-943-17-3_2022-96-98.pdf253.47 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.